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　　今天低溫等離子電源廠家來給大家講解一下等離子清洗的分類。
　　等離子體與固體表面發(fā)生反應可以分為物理反應和化學反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面被真空泵吸走；化學反應機制是各活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質。
　　以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕或離子銑，其優(yōu)點在于本身不發(fā)生的化學反應，清潔表面不會留下氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點就是對表面產(chǎn)生了很大的損害，會產(chǎn)生很大的熱效應，對被清洗表面的各不同物質選擇性差，腐蝕速度較低。以化學反應為主的等離子體清洗的優(yōu)點是清洗速度較高、選擇性好、對清掉污染物有用，缺點是會在表面產(chǎn)生氧化物。
　　和物理反應相比較，化學反應的缺點不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀形貌造成的影響有不同，物理反應能夠使表面在分子類范圍內變得“粗糙”，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促成，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損壞削弱其化學鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之容易產(chǎn)生反應；其作用是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。